euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近,复制掩模板上的图案;直写式光刻是将光束聚焦为一点,通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点,是集成电路主流光刻技术。
光刻机(Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”,制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造。